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COMPOSITION PHARMACEUTIQUE ET MÉTHODE POUR RÉDUIRE LA FORMATION DE CICATRICES
专利权人:
WANG, Yi-Wen; Yi-Wen;DAI, Niann-Tzyy;WANG
发明人:
WANG, YI-WEN,DAI, NIANN-TZYY
申请号:
CNCN2014/073228
公开号:
WO2015/135138A1
申请日:
2014.03.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
Disclosed herein is a pharmaceutical composition for reducing scar formation in a subject in need thereof. The pharmaceutical composition includes a mixture of three nucleic acids and a pharmaceutically acceptable carrier. A method for reducing scar formation in a subject in need thereof is also disclosed herein.L'invention concerne une composition pharmaceutique permettant de réduire la formation de cicatrices chez un sujet qui en a besoin. La composition pharmaceutique comprend un mélange de trois acides nucléiques et un support pharmaceutiquement acceptable. L'invention porte également sur une méthode permettant de réduire la formation de cicatrices chez un sujet qui en besoin.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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