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PHARMACEUTICAL COMPOSITION AND METHOD FOR REDUCING SCAR FORMATION
专利权人:
Niann-Tzyy DAI;YI-Wen WANG
发明人:
Yi-Wen WANG,Niann-Tzyy DAI
申请号:
US15124030
公开号:
US20170016005A1
申请日:
2014.03.11
申请国别(地区):
US
年份:
2017
代理人:
摘要:
Disclosed herein is a pharmaceutical composition for reducing scar formation in a subject in need thereof. The pharmaceutical composition includes a mixture of three nucleic acids and a pharmaceutically acceptable carrier. A method for reducing scar formation in a subject in need thereof is also disclosed herein.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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