PHARMACEUTICAL COMPOSITION FOR REDUCING SCAR FORMATION

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专利权人:

WANG; YI WEN

发明人:

王怡文,王怡文,DAI, NIANN TZYY,戴念梓,戴念梓

申请号：

TW103108308

公开号：

TWI542352B

申请日:

2014.03.11

申请国别(地区):

TW

年份:

2016

代理人:

摘要：

Disclosed herein is a pharmaceutical composition for reducing scar formation in a subject in need thereof. The pharmaceutical composition includes three nucleic acids and a pharmaceutically acceptable carrier thereof.本揭示內容是有關於一種醫藥組合物,其係用於一有需要之個體以減少疤痕的形成。該醫藥組合物包含三種核酸及其藥學上可接受之載體。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/