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変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜
- 专利权人:
- ＤＩＣ株式会社
- 发明人:
- 今田 知之
- 申请号：
- JP20150543614
- 公开号：
- JPWO2015174199(A1)
- 申请日:
- 2015.04.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、光感度及び耐熱性に優れる変性フェノール性水酸基含有化合物、当該化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物からなるレジスト材料、及び当該レジスト材料からなる塗膜を提供することを目的として、下記一般式（１）［式中、Ｒ１は３級アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ原子含有環状脂肪族炭化水素基、又はトリアルキルシリル基を表し、Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ３は置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。］で表される分子構造（但し、下
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
