化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法
- 专利权人:
- ＪＳＲ株式会社
- 发明人:
- 亀井 康孝,宮崎 仁孝,山中 達也,金野 智久
- 申请号：
- JP20140554307
- 公开号：
- JPWO2014103725(A1)
- 申请日:
- 2013.12.11
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）コロイダルシリカと、（Ｂ）アニオン性水溶性高分子と、（Ｃ）アルキル硫酸エステルおよびアルキルエーテル硫酸エステルよりなる群から選択される少なくとも１種のアルカノールアミン塩と、を含有し、ｐＨが１〜４であることを特徴とする。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
