化学機械研磨用処理組成物、化学機械研磨方法および洗浄方法
- 专利权人:
- ＪＳＲ株式会社
- 发明人:
- 羽山 孝弘,三星 蘭,亀井 康孝,西口 直希,三ツ元 清孝,加茂 理,飯田 雅史
- 申请号：
- JP20170509859
- 公开号：
- JPWO2016158648(A1)
- 申请日:
- 2016.03.24
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明に係る化学機械研磨用処理組成物は、（Ａ）水溶性アミン、（Ｂ）芳香族炭化水素基を有する繰り返し単位を有する水溶性重合体、および水系媒体を含み、好ましくは（Ｃ）芳香族炭化水素基を有する有機酸を含有し、ｐＨが９以上であることを特徴とする。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
