Provided are a plasma irradiation apparatus and plasma irradiation method capable of converting a silica precursor to a high quality silica film in a short time without thermal effects on the object being processed. This plasma irradiation apparatus 1 is provided with a plasma-generating unit 12 and an irradiation unit 80 for irradiating the plasma generated by the plasma-generating unit 12 on an object to be processed, and is characterized in that said irradiation unit 80 comprises a coating part 85 capable of coating a liquid on the object being processed.Linvention concerne un appareil dirradiation de plasma et un procédé dirradiation de plasma permettant de convertir un précurseur de silice en un film de silice de haute qualité sur une courte durée sans effet thermique sur lobjet en train dêtre traité. Lappareil dirradiation de plasma (1) est pourvu dune unité de production de plasma (12) et dune unité dirradiation (80) permettant lirradiation du plasma produit par lunité de production de plasma (12) vers un objet à traiter et est caractérisé en ce que ladite unité dirradiation (80) comprend une partie denduction (85) permettant denduire un liquide sur lobjet en train dêtre traité.シリカ前駆体を、被処理体に熱影響を与えず、短時間で、且つ高品質なシリカ膜に転化可能なプラズマ照射装置及びプラズマ照射方法を提供する。 本発明のプラズマ照射装置1は、プラズマ発生部12と、前記プラズマ発生部12により発生されたプラズマを、被処理体に照射する照射部80と、を備え、前記照射部80は、前記被処理体に液体を塗布可能な塗布部85を有すること、を特徴とする。
