磁场均匀度调整方法以及磁场均匀度调整装置
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 榊原健二,藤川拓也,阿部充志,花田光
- 申请号：
- CN201680007259.6
- 公开号：
- CN107205689B
- 申请日:
- 2016.27.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 即使在垫片托盘的各位置可配置的磁性体片的量具有限制,也可达成高的磁场均匀度,为此测量静磁场发生装置生成的静磁场的分布,计算静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场,一边使目标磁场在预定的磁场范围内变化,一边分别计算在垫片托盘的多个位置中的一个以上的位置配置了磁性体片时可达到的磁场均匀度。选择垫片托盘的各位置的磁性体片的量为预定的上限值以下且可达到的磁场均匀度为预定值以下的目标磁场,在垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的磁性体片的量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
