MRI装置用磁场调整
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所;株式会社日立医药
- 发明人:
- 阿部充志,安藤龙弥,中山武
- 申请号：
- CN200980116540.3
- 公开号：
- CN102046083B
- 申请日:
- 2009.05.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种磁场调整方法以及内置了该方法的装置。把测量到的误差磁场分布分解为通过奇异值分解而得到的固有模式成分，组合与各模式对应的铁片配置，来配置在垫片盘(5)上。根据可达到的磁场精度(均匀度)和铁片配置量的恰当性，选择要修正的固有模式。因为可以在掌握可达到的磁场精度(均匀度)的同时进行调整，所以还可以掌握错误的调整，并且在重复进行调整的过程中自动进行修正。当在本发明的方法或内置了该方法的装置的辅助下进行磁场调整时，在重复作业的过程中可靠地完成磁场调整。结果，可以提供磁场精度高的装置。此外，还具有通过调查可达到的均匀度(17)，可以早期地检测出不良的磁体的特征。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
