核磁共振成像装置以及RF匀场方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 伊藤公辅
- 申请号：
- CN201580010607.0
- 公开号：
- CN106028928B
- 申请日:
- 2015.25.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及核磁共振成像装置以及RF匀场方法,核磁共振成像装置具备:发送线圈,其在根据目标函数和制约条件进行RF匀场的运算时,为了一边进行B1分布的均匀化一边与每个通道向SAR的贡献对应地进行SAR的减小,具有向被检体分别发送高频的多个通道;以及运算部,其以提高发送线圈所生成的高频磁场分布的均匀度并且减小上述被检体的相对吸收率的方式,进行决定向上述多个通道分别发送的高频的振幅与相位中的至少一个的RF匀场的运算,在该RF匀场方法中,在根据目标函数和制约条件来进行RF匀场的运算时,根据每个通道向SAR的贡献来决定用于设定目标函数的目标函数参数的值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
