磁共振成像装置和高频磁场匀场参数决定方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 吉田琢,仓谷厚志
- 申请号：
- CN201580031786.6
- 公开号：
- CN106659416B
- 申请日:
- 2015.10.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 在MRI装置中,为了与被检体和摄像方式无关地短时间地进行高精度的RF匀场,并获得高品质的图像,具有数据库,该数据库在将计算出了匀场参数的状态作为被检体的基准状态时,预先保存相对于基准状态的变化所对应的匀场参数,在摄像时,使用与相对于该基准状态的变化量所最接近的变化量对应地,在数据库中登记的匀场参数。数据库中登记有根据过去实测出的结果而计算出的匀场参数。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
