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RECUBRIMIENTOS ANTI-INCRUSTANTES RETICULADOS FOTOPOLIMERIZABLES DURABLES.
专利权人:
UNIVERSITY OF IOWA RESEARCH FOUNDATION
发明人:
Elise Lin CHENG,C. Allan GUYMON,Marlan R. HANSEN,Braden LEIGH
申请号:
MX2018015718
公开号:
MX2018015718A
申请日:
2017.06.24
申请国别(地区):
MX
年份:
2019
代理人:
摘要:
Durable, anti-fouling, crosslinked zwitterionic coatings that are grafted to the surface of a substrate through covalent bonding are disclosed. When exposed to a light source, zwitterionic monomers react with a crosslinker and with activated radicals at the surface of the substrate, simultaneously forming the crosslinked zwitterionic coating and anchoring it to the surface of the substrate. Photomasking techniques can be used to micropattern the zwitterionic coatings. The zwitterionic coatings can be applied to a variety of substrates, including medical devices and systems.La presente invención se refiere a recubrimientos zwitteriónicos reticulados, anti-incrustantes, durables que son injertados a la superficie de un sustrato a través de enlace covalente. Cuando se exponen a una fuente de luz, los monómeros zwitteriónicos reaccionan con un reticulador y con radicales activados en la superficie del sustrato, formando simultáneamente el recubrimiento zwitteriónico reticulado y anclándolo a la superficie del sustrato. Las técnicas de fotoenmascaramiento pueden ser usadas para formar en micropatrones los recubrimientos zwitteriónicos. Los recubrimientos zwitteriónicos pueden ser aplicados a una variedad de sustratos, que incluyen sistemas y dispositivos médicos.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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