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溶存金属イオン分析用前処理デバイス、溶存金属イオン分析デバイスおよび溶存金属イオン分析方法
- 专利权人:
- パナソニックＩＰマネジメント株式会社
- 发明人:
- 藤田 浩史,井関 正博
- 申请号：
- JP20150216742
- 公开号：
- JP2017087102(A)
- 申请日:
- 2015.11.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】従来に比べ短時間で溶存金属イオン分析に適した試料溶液を調製することが可能な溶存金属イオン分析用前処理デバイス、溶存金属イオン分析デバイスおよび溶存金属イオン分析方法を提供する。【解決手段】溶存金属イオン分析用前処理デバイスは、金属イオンを含有する溶液を保持する空間を有する電解槽と、電解槽の空間を、第１、第２、第３、第４および第５室に仕切る第１、第２陽イオン交換膜および第１、第２陰イオン交換膜と、陽極および陰極とを備え、第１室は、第１陽イオン交換膜によって仕切られており、第２室は、第１および第２陽イオン交換膜によって仕切られており、第３室は、第２陽イオン交換膜および第１陰イオン交換膜によって仕切られており、第４室は、第１および第２陰イオン交換膜によって仕切られており、
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
