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溶存金属イオン分析用前処理デバイス、溶存金属イオン分析デバイスおよび溶存金属イオン分析方法
- 专利权人:
- パナソニックIPマネジメント株式会社
- 发明人:
- 藤田 浩史,井関 正博
- 申请号:
- JP20150216742
- 公开号:
- JP2017087102(A)
- 申请日:
- 2015.11.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 【課題】従来に比べ短時間で溶存金属イオン分析に適した試料溶液を調製することが可能な溶存金属イオン分析用前処理デバイス、溶存金属イオン分析デバイスおよび溶存金属イオン分析方法を提供する。【解決手段】溶存金属イオン分析用前処理デバイスは、金属イオンを含有する溶液を保持する空間を有する電解槽と、電解槽の空間を、第1、第2、第3、第4および第5室に仕切る第1、第2陽イオン交換膜および第1、第2陰イオン交換膜と、陽極および陰極とを備え、第1室は、第1陽イオン交換膜によって仕切られており、第2室は、第1および第2陽イオン交換膜によって仕切られており、第3室は、第2陽イオン交換膜および第1陰イオン交換膜によって仕切られており、第4室は、第1および第2陰イオン交換膜によって仕切られており、
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/