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高純度の(R)-9-[2-(ホスホノメトキシ)プロピル]アデニンの製造方法
专利权人:
ハンミ・ファイン・ケミカル・カンパニー・リミテッド
发明人:
チェ・ウォンギョン,パク・ウンラン,チョ・ヨンボム,イ・ジェホン,チャン・ヨンギル
申请号:
JP2017516154
公开号:
JP2017535520A
申请日:
2015.09.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a process for producing high purity (R)-9-[2-(phosphonomethoxy) propyl] adenine (PMPA), which is easy in the reaction process, produces less impurities during the reaction, Ethoxyphosphoryl) methylnaphthalene-1-sulfonate or (diethoxyphosphoryl) methylnaphthalene-2-sulfonate is used as an intermediate, PMPA with high purity can be produced. In addition, since PMPA produced by the method of the present invention has a very high purity, it can be used to produce tenofovir disoproxil and its acid addition salt with high purity and produces high quality raw material drugs It is very advantageous to do. (FIG.本発明は、高純度の(R)-9-[2-(ホスホノメトキシ)プロピル]アデニン(PMPA)の製造方法に関し、反応工程が容易で、反応中不純物生成が少なく、純度の高い(ジエトキシホスホリル)メチルナフタレン-1-スルホネート又は(ジエトキシホスホリル)メチルナフタレン-2-スルホネートを中間体として用いるので、純度の高いPMPAを製造することができる。また、本発明の方法で製造されたPMPAは、純度が非常に高いので、これを用いればテノホビルジソプロキシル及びこの酸付加塩を高純度で製造することができ、高品質の原料医薬品を生産するのに非常に有利である。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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