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遺伝子修復作用を呈するフマル酸誘導体
专利权人:
FUTAMURA YOSHIHIRO
发明人:
FUTAMURA YOSHIHIRO,二村 芳弘
申请号:
JP2017003840
公开号:
JP2018111666A
申请日:
2017.01.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fumaric acid derivative showing a gene repairing action.SOLUTION: A fumaric acid derivative is an amphipathic compound composed of two fumaric acid molecules, one isorhamnetin molecule and one silicon molecule. A production method includes fermenting a fermentation liquid fermented by adding Bacillus natto made by Natto Hompo to leaves of Phyolacca and rice bran powder with Monascus purpureus. When the fumaric acid derivative is dissolved in a water-soluble solvent, 1.6 ppm of hydrogen gas is generated. The obtained fumaric acid derivative shows an excellent gene repairing action, and is suitable for improvement of a cell function. The derivative is applied as a cosmetic, a food and a plant activator.SELECTED DRAWING: None【課題】 遺伝子修復作用を呈するフマル酸誘導体を提供する。【解決手段】 フマル酸誘導体とはフマル酸2分子、イソラムネチン1分子とケイ素1分子から構成される両親媒性化合物である。その製造方法はナズナの葉及び米糠粉末に納豆本舗製の納豆菌を添加して発酵させた発酵液をベニコウジ菌で発酵する工程からなる。また、水溶性溶媒に溶解した場合、1.6ppmの水素ガスを発生する。得られるフマル酸誘導体は優れた遺伝子修復作用を呈し、細胞機能の改善に適する。この誘導体は化粧料、食品及び植物活性化剤として応用される。【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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