研磨剤組成物、および磁気ディスク基板の研磨方法
- 专利权人:
- 山口精研工業株式会社
- 发明人:
- 岩田 徹,巣河 慧
- 申请号：
- JP20160510360
- 公开号：
- JPWO2015146942(A1)
- 申请日:
- 2015.03.24
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- アルミナ粒子を使用することなく、高い研磨速度を実現すると同時に、良好な表面平滑性と端面形状を得ることを可能にする研磨剤組成物を提供する。コロイダルシリカと、粉砕された湿式法シリカ粒子と、水溶性高分子化合物と、を含有し、前記水溶性高分子化合物が不飽和脂肪族カルボン酸に由来する構成単位を有する重合体または共重合体である研磨剤組成物である。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
