The invention relates to a surfactant composition including at least one compound of formula (I): in which each of the radicals Z is a hydrogen atom or (Z1) at least one compound of formula (IV) one compound of formula (V) and one compound of formula (VI). The invention also relates to a method for preparing said composition and to the use thereof in cosmetics.Composition tensioactive comprenant au moins un composé de formule (I) : dans laquelle chacun des radicaux Z représente un atome dhydrogène ou (Z1): au moins un composé de formule (IV) un composé de formule (V) et un composée de formule (VI) procédé pour sa préparation et utilisation en cosmétique.