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表面上に書込む形状をバイアスするための方法およびシステム
- 专利权人:
- ディー・ツー・エス・インコーポレイテッドＤ２Ｓ， ＩＮＣ．
- 发明人:
- ハロルド・ロバート・ゼイブル
- 申请号：
- JP20170125203
- 公开号：
- JP2018006748(A)
- 申请日:
- 2017.06.27
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】表面上に書込む形状をバイアスするための方法およびシステムを提供する。【解決手段】方法は、画素のアレイを入力するステップを含み、画素のアレイ内の各画素は画素線量を有する。画素のアレイは複数のパターンを用いて露光される表面上の線量を表わし、複数のパターンのうちの各パターンはエッジを有する。ターゲットバイアスを入力する。複数のパターンのうちの各パターンのエッジを識別する。識別したエッジの近傍にある各画素ごとに、識別したエッジがターゲットバイアスだけ移動するように、算出画素線量を計算する。画素のアレイを計算した画素線量とともに出力する。上記方法を実行するためのシステムも開示される。【選択図】図１７
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
