The present invention relates to a method and system for analyzing a substance (100). The method includes disposing an optical medium (10) on a material surface such that at least one region of a surface (12) of the optical medium (10) is in contact with the material surface； Emitting an excitation light beam having an excitation wavelength through a region of the surface (12) of the optical medium (10) in contact with the material surface onto a material surface； Onto the surface 12 region of the optical medium 10 in direct contact with the material surface such that the excitation light beam and the measurement light beam are superimposed on the interface of the material surface with the optical medium 10 on which the measuring light beam is reflected, Emitting a measurement light beam through the substrate (10)； Directly or indirectly detecting the deflection of the reflected measurement light beam according to the wavelength of the excitation beam； And analyzing the material (100) based on the detected deflection of the measuring light beam according to the wavelength of the excitation light beam.본 발명은 물질(100)을 분석하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다. 이 방법은 광학 매체(10)의 표면(12)의 적어도 하나의 영역이 물질 표면과 접촉하도록 물질 표면 상에 광학 매체(10)를 배치하는 단계； 물질 표면과 접촉하고 있는 광학 매체(10)의 표면(12) 영역을 통해 여기 파장을 가진 여기 광 빔을 물질 표면 상으로 방사하는 단계； 측정 광 빔이 반사되는 광학 매체(10)와 물질 표면의 계면에서 여기 광 빔과 측정 광 빔이 중첩되도록, 물질 표면과 직접 접촉하고 있는 광학 매체(10)의 표면(12) 영역 상으로 광학 매체(10)를 통해 측정 광 빔을 방사하는 단계； 여기 광 빔의 파장에 따라 반사된 측정 광 빔의 편향을 직접적으로 또는 간접적으로 검출하는 단계； 여기 광 빔의 파장에 따라 측정 광 빔의 검출된 편향에 기초하여 물질(100)을 분석하는 단계를 포함한다.
