APPLIED SILVER;APPLIED SILVER, INC.;MORRIS, William, M.; INC.
发明人:
MORHAM, Sean, D.
申请号：
USUS2014/065836
公开号：
WO2015/084568A1
申请日:
2014.11.14
申请国别(地区):
US
年份:
2015
代理人:
摘要：
An antimicrobial supply system employs a process water supply (16) and incorporates a metallic ion supply (22) to provide a high ion concentrate to an output, A dilution reservoir (14) is connected to the metallic ion supply output and has an input from the process water supply. A pump (26) is connected to an output of the reservoir. A manifold (28) connected to the pump provides a dilute concentrate to at least one washing system. An electronics control module (44) is connected to a first flow controller (18) between the process water supply and the reservoir and a pump (72) between the metallic ion supply and the reservoir for dilution control establishing a desired metallic ion concentration.L'invention concerne un système d'alimentation en composé antimicrobien qui emploie une alimentation en eau de procédé (16) et comprend une alimentation en ion métallique (22) pour obtenir un concentré à heute teneur en ions. Un réservoir de dilution (14) est connecté à la sortie d'alimentation en ion métallique et comprend une entrée venant de l'alimentation en eau de procédé. Une pompe (26) est connectée à une sortie du réservoir. Un collecteur (28) connecté à la pompe envoie un concentré dilué vers au moins un système de lavage. Un module de commande électronique (44) est connecté à un premier dispositif de commande du débit (18) entre l'alimentation en eau de procédé et le réservoir et une pompe (72) entre l'alimentation en ions métalliques et le réservoir pour la régulation de la dilution établissant une concentration en ions métalliques souhaitée.
