An antimicrobial supply system employs a process water supply (16) and incorporates a metallic ion supply (22) to provide a high ion concentrate to an output. A dilution reservoir (14) is connected to the metallic ion supply output and has an input from the process water supply. A pump (26) is connected to an output of the reservoir. A manifold (28) connected to the pump provides a dilute concentrate to at least one washing system. An electronics control module (44) is connected to a first flow controller (18) between the process water supply and the reservoir and a pump (72) between the metallic ion supply and the reservoir for dilution control establishing a desired metallic ion concentration.L'invention concerne un système d'alimentation en antimicrobien qui emploie une alimentation en eau de procédé (16) et comprend une alimentation en ions métalliques (22) pour envoyer un concentrat à haute teneur en ions vers une sortie. Un réservoir de dilution (14) est connecté à la sortie de l'alimentation en ions métalliques et comprend une entrée venant de l'alimentation en eau de procédé. Une pompe (26) est connectée à une sortie du réservoir. Un collecteur (28) connecté à la pompe envoie un concentrat dilué vers au moins un système de lavage. Un module de commande électronique (44) est connecté à un premier dispositif de commande de débit (18) entre l'alimentation en eau de procédé et le réservoir et une pompe (72) entre l'alimentation en ions métalliques et le réservoir pour la régulation de la dilution qui établit une concentration en ions métalliques désirée.
