不連続金属膜の形成方法
- 专利权人:
- ＣＢＣ株式会社
- 发明人:
- 千葉 忍
- 申请号：
- JP20150133944
- 公开号：
- JP2017014585(A)
- 申请日:
- 2015.07.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】 スパッタリング法による不連続金属薄膜の形成において、安定的且つ容易に、また、量産化に対応した広い面積の基材に対しても、高い成膜精度での成膜を可能とする不連続金属膜の形成方法を提供する。【解決手段】 スパッタリング法による不連続金属膜の形成方法であって、ターゲット５の金属粒子を基材４表面に一定時間到達させた後、一定時間休止させて間隔を置くことにより、金属粒子のエネルギーを損失させて定着させ、これを核として島構造を段階的に成長させることを特徴とする。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
