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反射防止膜、光学素子、光学系および光学機器
- 专利权人:
- キヤノン株式会社
- 发明人:
- 内田 和枝,桃木 和彦
- 申请号：
- JP20150204574
- 公开号：
- JP2017076081(A)
- 申请日:
- 2015.10.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】４３０ｎｍから１８００ｎｍまでの波長域において高い反射防止性能を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】反射防止膜１０は、基板０の表面に形成され、複数の層を含む多層膜である。該複数の層のうち最も基板から離れた最上層ｍの波長λ（ｎｍ）に対する屈折率をｎｍとし、多層膜のうち最上層を除く１層以上の下地層１１の光学アドミタンスを、Ｙ＝ａ＋ｉｂとするとき、最上層の屈折率ｎｍは、１．１≦ｎｍ≦１．３なる条件を満足する。また、λ＝４３０のときは（ａ−１．１３）２＋（ｂ−０．２４）２≦０．４５２を満足し、λ＝９００のときは（ａ−１．３３）２＋（ｂ＋０．０５）２≦０．２５２を満足し、λ＝１８００のときは（ａ−１．１４）２＋（ｂ＋０．２５）２≦０．２９２を満足する。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
