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METHOD OF FORMING A MULTILAYER STRUCTURE
专利权人:
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人:
DEYAN WANG
申请号:
KR20180034829
公开号:
KR20180109737(A)
申请日:
2018.03.27
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要:
액체 캐리어 및 특정 MX/흑연질 탄소 전구체를 포함하는 조성물은 유리 기판 상에 배치된 MX 층 및 흑연질 탄소 층을 갖는 다층 구조를 형성하는데 유용하고, 상기 MX 층은 상기 다층 구조에서 상기 기판과 상기 흑연질 탄소층 사이에 개제된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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