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COMPOSITION DE RESINE PHOTODURCISSABLE NE CONTENANT PASD'ANTIMOINE ET ARTICLE TRIDIMENSIONNEL
专利权人:
HUNTSMAN ADVANCED MATERIALS (SWITZERLAND) GMBH
发明人:
FONG, JOHN WAI,LEYDEN, RICHARD,MESSE, LAURENCE,PATEL, RANJANA C.,CHAPELAT, CAROLE
申请号:
CA2626327
公开号:
CA2626327C
申请日:
2006.10.26
申请国别(地区):
CA
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention provides a low viscosity photocurable compositionincluding (i) a cationically curable component (ii) a free radically activecomponent (iii) an antimony- free cat ionic photoinitiator and (v) a freeradical photoinitiator. The photocurable composition can be cured using rapidprototyping techniques to form three-dimensional articles which can be used invarious aerospace and investment casting applications.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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