Even if the position of the position monitoring and scanning magnet is relatively changed, it is intended to calculate accurately the beam irradiation position, and performing a beam with high accuracy. Position monitor which detects the passing position the charged particle beam (2) and (9), calculates the distance position monitor to (9) and (D) from a predetermined reference point, the irradiation object and the beam irradiation position in the (25) (P and an irradiation control device calculates a), to control the illumination beam (2), and (23). Irradiation control device (23), detected by (9) position monitor beam position (Pm), irradiated surface irradiated object (25) from (31), beam (5x, 5y) in the scanning electromagnet (2) a position monitor distance information from (31) position monitor to (9) and the scanning start point distance information (1x, 1y) to scan the starting point, the irradiated surface was calculated on the basis of distance and the calculated (D), based on the , I have a (30) position calculating device to calculate the (P) irradiation position.走査電磁石と位置モニタの位置が相対的に変化する場合であっても、ビーム照射位置を正確に計算し、高精度なビーム照射を実行することを目的とする。荷電粒子ビーム(2)の通過位置を検出する位置モニタ(9)と、所定の基準点から位置モニタ(9)までの距離(D)を算出し、照射対象(25)におけるビーム照射位置(P)を計算し、ビーム(2)の照射を制御する照射制御装置(23)と、を備える。照射制御装置(23)は、位置モニタ(9)により検出されたビーム位置(Pm)と、照射対象(25)の照射面(31)から、走査電磁石(5x、5y)におけるビーム(2)の走査起点(1x、1y)までの走査起点距離情報と、前記算出した距離(D)に基づいて計算された照射面(31)から位置モニタ(9)までの位置モニタ距離情報と、に基づいて、照射位置(P)を計算する位置計算装置(30)を有する。
