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荷電粒子線照射システム及び照射ノズル装置
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
名取 尊良,森山 國夫,田所 昌宏
申请号:
JP2008314992
公开号:
JP5155127B2
申请日:
2008.12.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged corpuscular beam radiation system and an radiation nozzle device which enable the radiation with fine charged corpuscular beams as intact without the expansion of the diameter thereof while allowing the monitoring of incident beam positions.SOLUTION: An upstream beam position monitoring unit 6 includes a beam position monitoring device 17 which has an array interval of electrode wires, made wider than the surrounding areas, at the central part where the charged corpuscular beams pass. This can reduce the number of tungsten wires hit by the charged corpuscular beams to strict the scattering of the charged corpuscular beams, thereby enabling the radiation with fine beams as intact to a target 13. This also enables the safe and accurate radiation with the charged corpuscular beams to patients monitoring the positions of the beams using a detection signal of the upstream beam position monitoring unit 6.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】入射ビーム位置を監視することができ、かつ荷電粒子ビーム径を拡大することなく、細いビームのまま照射することができる荷電粒子線照射システム及び照射ノズル装置を提供する。【解決手段】上流ビーム位置モニタ装置6は、荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔を周辺部分よりも広くしたビーム位置モニタ17を備える。これにより荷電粒子ビームが当たるタングステンワイヤの本数が減るため、荷電粒子ビームの散乱が抑えられ、細いビームまま照射対象13に照射が可能となる。また、上流ビーム位置モニタ装置6の検出信号を用いてビーム位置を監視しながら、患者に安全で正確な荷電粒子ビーム照射が可能となる。【選択図】図6
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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