您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

ネイルアートの除去方法及び形成方法ならびに指先保護剤
专利权人:
株式会社AGT&T
发明人:
瀧 孝雄
申请号:
JP2015040419
公开号:
JP6005780B2
申请日:
2015.03.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preventing damage of fingertips which is caused by organic solvent, ultraviolet light irradiation, chemical contained in nail gel or the like in removing or forming processes of nail art.SOLUTION: In a nail art removal method for removing nail art by using organic solvent, after a fingertip protective layer containing aggrecan is formed on fingertips on which nail art is applied by coating an aggrecan-containing composition which contains aggrecan and drying the composition, nail art by organic solvent is removed. Further, a nail art forming method for applying nail art by using photo-setting nail gel has a process of forming a fingertip protective layer containing aggrecan on fingertips on which nail art is applied by coating an aggrecan-containing composition which contains aggrecan and drying the composition.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】 ネイルアートの除去や形成工程で、有機溶媒や紫外線照射、ネイルジェルに含まれる薬品等により生じる指先の損傷を防止する方法を提供する。【解決手段】 有機溶媒を用いてネイルアートを除去するネイルアート除去方法において、ネイルアートを施された指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させた後、有機溶媒によるネイルアートを除去することを特徴とするネイルアート除去方法。また、光硬化型のネイルジェルを用いてネイルアートを施すネイルアート形成方法において、ネイルアートを施す指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させる工程を有することを特徴とするネイルアート形成方法。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充