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包装容器内プラズマ処理方法およびその装置
专利权人:
国立大学法人東京工業大学
发明人:
沖野 晃俊,宮原 秀一
申请号:
JP2009271522
公开号:
JP5455030B2
申请日:
2009.11.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma treatment method and device in a packaging container, surely conducting plasma treatment for a treatment object thoroughly, retaining the effect of plasma treatment even after the plasma treatment for long time, and having excellent cost performance.SOLUTION: This plasma treatment method includes: a gas enclosing packaging process of putting the treatment object 6 in a packaging container 4, and sealing after enclosing plasma gas and a second plasma treatment process of disposing the packaging container 4 after the end of the gas enclosing packaging process in a middle position between at least one pair of electrodes 1A, 1B disposed at a space in the atmospheric pressure, and then applying voltage between the pair of electrodes 1A, 1B to generate plasma 12 in the packaging container 4.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】 処理対象物に満遍なく、確実にプラズマ処理を施すことができるとともに、プラズマ処理後もプラズマ処理の効果を長く保持することができ、さらに、コスト面に優れた包装容器内プラズマ処理方法およびその装置を提供すること。【解決手段】 包装容器4内に処理対象物6を入れるとともに、プラズマガスを封入した後、密閉するガス封入包装工程と、前記ガス封入包装工程終了後の前記包装容器4を大気圧下において離間配置された少なくとも一対の電極1A、1Bの中間位置に配置した後、前記一対の電極1A、1B間に電圧を印加して前記包装容器4内にプラズマ12を発生させる第2プラズマ処理工程とを有することを特徴とする。【選択図】 図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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