The present invention relates to a composition comprising an ionic complex of chitosan and a negatively charged polysaccharide, selected from the group consisting of a heparin, a heparan sulfate, a chondroitin sulfate, a dermatan sulfate and a dextran sulfate, for use in reducing scar formation during healing of a dermal wound in a mammalian subject. The invention further relates to a method of reducing scar formation during healing of a dermal wound in a mammalian subject, by applying topically a composition comprising an ionic complex of chitosan and a negatively charged polysaccharide, selected from the group consisting of a heparin, a heparan sulfate, a chondroitin sulfate, a dermatan sulfate and a dextran sulfate, to the dermal wound.La présente invention concerne une composition comprenant un complexe ionique de chitosane et un polysaccharide chargé négativement, choisi dans le groupe constitué par une héparine, un sulfate d'héparane, un sulfate de chondroïtine, un dermatane sulfate et un sulfate de dextrane, pour une utilisation dans la réduction de la formation de cicatrice pendant la cicatrisation d'une plaie dermique chez un sujet mammifère. L'invention concerne en outre un procédé de réduction de la formation de cicatrice pendant la cicatrisation d'une plaie dermique chez un sujet mammifère, par application topique d'une composition comprenant un complexe ionique de chitosane et un polysaccharide chargé négativement, choisi dans le groupe constitué d'une héparine, d'un sulfate d'héparane, d'un sulfate de chondroïtine, d'un dermatane sulfate et d'un sulfate de dextrane, sur la plaie dermique.
