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薄膜キャパシタの製造方法、集積回路搭載基板、及び当該基板を備えた半導体装置
专利权人:
株式会社野田スクリーン
发明人:
服部 篤典
申请号:
JP20160503259
公开号:
JPWO2016143087(A1)
申请日:
2015.03.11
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
回路基板に薄膜キャパシタを製造する方法であって、支持部材(31)の表面に形成された誘電体膜(12M)上に薄膜キャパシタの第1電極層(11)を所要パターンで形成する第1電極形成工程(図3(d))と、誘電体膜(12M)上および第1電極層(11)上に、回路基板の絶縁基材(16)を、第1電極層(11)を埋め込むように形成する基材形成工程(図3(e))と、支持部材(31)を除去し、誘電体膜(12M)の第1電極層(11)とは反対側の面を露出させる除去工程と、誘電体膜(12M)をパターニングすることで、第1電極層(11)に重なる誘電体層を残すと共に、その誘電体層に第1の貫通孔を形成して第1電極層(11)の誘電体層側の面の一部を露出させる誘電体パターニング工程と、第1の貫通孔内を含む誘電体
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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