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半導体素子を選択的にトランスファーする方法
专利权人:
晶元光▲電▼股▲ふん▼有限公司
发明人:
呂 志▲強▼,林 俊宇,▲陳▼ 怡名,林 敬倍,▲簡▼ 崇▲訓▼,黄 建富,▲顧▼浩民,▲謝▼ 明▲勲▼,徐 子杰
申请号:
JP20160530289
公开号:
JP6125730(B2)
申请日:
2013.07.29
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
A semiconductor device comprises a substrate, a first semiconductor unit on the substrate, and an first adhesion structure between the substrate and the first semiconductor unit, and directly contacting the first semiconductor unit and the substrate, wherein the first adhesion structure comprises an adhesion layer and a sacrificial layer, and the adhesion layer and the sacrificial layer are made of different materials, and wherein an adhesion between the first semiconductor unit and the adhesion layer is different from that between the first semiconductor unit and the sacrificial layer.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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