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シクロヘキサン誘導体の製造方法
专利权人:
塩野義製薬株式会社
发明人:
國谷 亮介,高谷 健二,今村 良明,長谷川 愛子
申请号:
JP2011543255
公开号:
JPWO2011065351A1
申请日:
2010.11.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Formula (IV): (Wherein, halogen, R 1 is C1-C6 alkyl or the like independently, n is an integer of 0~2, X is O or S, R 2 is C1-C6 alkyl, C1-C6 formula (V a compound represented by) haloalkyl, etc.).: And wherein the step of reacting a compound represented by (a C3-C8 cycloalkyl, etc. wherein, R 3 is C1-C6 alkyl.) Formula (I): (Wherein,. Has the same meaning as the symbols in the compound of formula (IV) or (V) X, and 3, n R 1, R is) a compound represented by their solvates or salts thereof method of manufacturing.式(IV):(式中、R1はそれぞれ独立してハロゲン、C1-C6アルキル等であり、nは0~2の整数であり、XはSまたはOであり、R2はC1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル等である。)で示される化合物を式(V):(式中、R3はC1-C6アルキル;C3-C8シクロアルキル等である。)で示される化合物と反応させることを特徴とする、式(I):(式中、R1、R3、nおよびXは、式(IV)または(V)で示される化合物における各記号と同意義である。)で示される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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