ＣＤの均一性を向上させるための基板温度調整を行う方法及びプラズマエッチングシステム

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专利权人:

ラム リサーチ コーポレーションＬＡＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ

发明人:

ギャフ・キース・ウィリアム,シン・ハーミート,コメンダント・キース,バヘディ・バヒド

申请号：

JP20120544478

公开号：

JP6066728(B2)

申请日:

2010.12.13

申请国别(地区):

日本

年份:

2017

代理人:

摘要：

A plasma etching system having a substrate support assembly with multiple independently controllable heater zones. The plasma etching system is configured to control etching temperature of predetermined locations so that pre-etch and/or post-etch non-uniformity of critical device parameters can be compensated for.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/