薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 吉野 智晴,杉浦 奈奈,西田 章浩
- 申请号：
- JP20160133140
- 公开号：
- JP2018003111(A)
- 申请日:
- 2016.07.05
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】自然発火性が無く、熱分解性及び／又は反応性ガスとの反応性が良い薄膜形成用原料の提供。【解決手段】式（１）で表される化合物を含有してなる薄膜形成用原料。アルキル基がすべてメチル基のものは、ＡＬＤウィンドウが広く、高品質の金属含有薄膜を形成できる。（Ｒ１〜Ｒ７は各々独立に、Ｃ１〜５のアルキル基；Ｍはチタン、ジルコニウム又はハフニウム）【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
