真空蒸着装置、蒸着膜の製造方法および有機電子デバイスの製造方法
- 专利权人:
- キヤノントッキ株式会社
- 发明人:
- 三澤 啓太,後藤 亮太,風間 良秋,七五三木 浩一
- 申请号：
- JP20160099372
- 公开号：
- JP2017008409(A)
- 申请日:
- 2016.05.18
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】蒸着中の熱変形を防止して高精度に所望のパターンで成膜可能な真空蒸着装置の提供。【解決手段】蒸着室１に、マスクを介して基板に蒸着を行う蒸発源２と、蒸着を行う際に前記蒸発源２を前記基板に対して相対的に移動させる蒸発源移動機構または蒸着を行う際に前記基板を前記蒸発源に対して相対的に移動させる基板移動機構とを設けた真空蒸着装置であって、前記基板への蒸着を開始する前に、前記蒸発源２を用いて前記マスクの事前加熱を行うように前記蒸発源移動機構または前記基板移動機構を構成する。【選択図】図１
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