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処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法
- 专利权人:
- アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED
- 发明人:
- ディエゲス−カンポ, ホセ マヌエル,バンゲルト, シュテファン,シュースラー, ウーヴェ,ハース, ディーター
- 申请号:
- JP20160537025
- 公开号:
- JP2017500447(A)
- 申请日:
- 2014.08.19
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置が記載される。処理装置は、処理真空チャンバと;有機材料用の少なくとも1つの蒸発源であって、少なくとも1つの蒸発源が、有機材料を蒸発させるように構成された少なくとも1つの蒸発るつぼ、及び少なくとも1つの蒸発るつぼと流体連通している、一又は複数の排出口を有する少なくとも1つの分配管とを含む、少なくとも1つの蒸発源と;処理真空チャンバと連結された保守真空チャンバであって、少なくとも1つの蒸発源を処理真空チャンバから保守真空チャンバへ及び保守真空チャンバから処理真空チャンバへ移送することができる、保守真空チャンバとを含む。【選択図】 図2
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/