Methods and systems for improved timing of a source laser in a laser produced plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) generation system are disclosed. Due to forces within the plasma chamber, a velocity of a droplet can slow as M approaches the irradiation site. Because the droplet is slowed, a source laser fires prematurely relative to the slowed droplet, resulting in only a leading portion of the droplet being irradiated. The resulting amount of EUV energy generated from the droplet is proportional to the slowed velocity of the droplet. To compensate, the firing of the source laser is delayed for a next droplet based on the generated EU V energy. Because the firing of the source laser is delayed for the next droplet, the next droplet is more likely to be in position to be more completely irradiated, resulting in more EUV energy being generated from the next droplet.La présente invention concerne des procédés et des systèmes permettant d'améliorer la synchronisation d'un laser source dans un système de production de lumière UV extrême (EUV) de plasma produit par laser (LPP). En raison des forces à l'intérieur de la chambre de plasma, une vitesse d'une gouttelette peut diminuer au fur et à mesure que M s'approche du site d'exposition au rayonnement. Comme la gouttelette est ralentie, un laser source est allumé prématurément par rapport à la gouttelette ralentie, ce qui n'entraîne l'exposition au rayonnement que d'une partie de tête de la gouttelette. La quantité d'énergie UV extrême ainsi obtenue générée à partir de la gouttelette est proportionnelle à la diminution de la vitesse de la gouttelette. Pour compenser, l'allumage du laser source est retardé pour une gouttelette suivante en se basant sur l'énergie UV extrême générée. Comme l'allumage du laser source est retardé pour la gouttelette suivante, ladite gouttelette suivante est plus susceptible de se trouver dans une position lui permettant d'être plus complètement exposée au rayonnement, ce qui entraîne une pro
