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傾斜構造体、傾斜構造体の製造方法、及び分光センサー
专利权人:
SEIKO EPSON CORP
发明人:
YOSHIZAWA TAKAHIKO,吉澤 隆彦
申请号:
JP2011164537
公开号:
JP2013029603A
申请日:
2011.07.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a micro tilt structure.SOLUTION: A method of manufacturing a tilt structure includes: a step (a) of forming a sacrificial film on the upper side of a substrate a step (b) of forming a first film on the upper side of the sacrificial film a step (c) of forming a second film which includes a first portion connected to the substrate, a second portion connected to the first film and a third portion located between the first portion and the second portion and a step (d) of removing the sacrificial film and a step (e) of bending the third portion of the second film after the process (d) and then tilting the first film to the substrate.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】微小な傾斜構造体を製造する。【解決手段】基板の上方に犠牲膜を形成する工程(a)と、犠牲膜の上方に第1の膜を形成する工程(b)と、第2の膜であって、基板に接続された第1の部分と、第1の膜に接続された第2の部分と、上記第1の部分及び上記第2の部分の間に位置する第3の部分と、を含む第2の膜を形成する工程(c)と、犠牲膜を除去する工程(d)と、工程(d)の後に第2の膜の上記第3の部分を曲げて、第1の膜を基板に対して傾斜させる工程(e)と、を含む。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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