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METHOD OF MANUFACTURING MOLD FOR PREPARING MICRONIDDLE USING LITHOGRAPHY
专利权人:
PUSAN NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION
发明人:
홍석원,HONG, SUCK WONKR
申请号:
KR1020170021779
公开号:
KR1017879450000B1
申请日:
2017.02.17
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display device, comprising: forming a first metal layer on a transparent substrate; Forming a first photoresist layer over the first metal layer and aligning the photomask over the first photoresist layer; Exposing and developing the photomask to form a pattern on the first photoresist layer, and removing the photomask; Etching the first metal layer and removing the first photoresist layer; Forming a second photoresist layer on the first metal layer, exposing and developing the lower portion of the transparent substrate to produce a microneedle template; And forming a second metal layer on the microneedle template and removing the microneedle template. The present invention also provides a method of manufacturing a mold for a microneedle.본 발명의 일 실시예에 따르면, 투명 기판 상에 제1 금속층을 형성하는 단계; 상기 제1 금속층 상부에 제1 포토레지스트층을 형성하고, 상기 제1 포토레지스트층 상부에 포토마스크를 정렬하는 단계; 상기 포토마스크 상부에서 노광 및 현상하여 상기 제1 포토레지스트층에 패턴을 형성하고, 상기 포토마스크를 제거하는 단계; 상기 제1 금속층을 식각(etching)하고 상기 제1 포토레지스트층을 제거하는 단계; 상기 제1 금속층 상부에 제2 포토레지스트층을 형성하고, 상기 투명 기판 하부에서 노광 및 현상하여 마이크로니들 템플레이트를 제조하는 단계; 및 상기 마이크로니들 템플레이트 상부에 제2 금속층을 형성하고, 상기 마이크로니들 템플레이트를 제거하는 단계;를 포함하는, 마이크로니들용 몰드의 제조방법이 제공된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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