一种X射线光栅相位衬度成像装置和方法
- 专利权人:
- 中国科学技术大学
- 发明人:
- 吴自玉,王志立,高昆,刘刚,潘志云
- 申请号：
- CN201310557196.X
- 公开号：
- CN104622492A
- 申请日:
- 2013.11.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种大视场、高衬度、低剂量的硬X射线光栅相位衬度成像装置和方法，所述装置包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)，该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上，分束光栅(G1)的周期为30～50μm、高宽比不大于20。本发明通过增大光栅周期，提高分束光栅的空占比，同时增加物体到分析光栅的距离，提供了一种高图像衬度、低辐射剂量、大视场相位衬度成像的装置与方法，并且本发明能够利用常规多色X光源和现有的光栅制作工艺，适于实际临床应用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
