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PHOTO-VINYL LINKING AGENTS
专利权人:
SurModics; Inc.
发明人:
SWAN, Dale G.,KURDYUMOV, Aleksey V.,JELLE, Bruce M.
申请号:
USUS2012/041381
公开号:
WO2012/170706A2
申请日:
2012.06.07
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
Embodiments of the invention include linking agents including photo groups and vinyl groups and coatings and devices that incorporate such linking agents, along with related methods. Exemplary methods herein include methods of priming substrates and methods of coating substrates using compounds having the formula R1 - X - R2, wherein R1 is a radical comprising a vinyl group, X is a radical comprising from about one to about twenty carbon atoms, and R2 is a radical comprising a photoreactive group. Embodiments herein also include linking agents having the formula R1 - X - R2, wherein R1 is a radical comprising a vinyl group, X is a radical comprising from about one to about twenty carbon atoms, and R2 is a radical comprising a photoreactive group. Other embodiments are also included herein.Des modes de réalisation de linvention comprennent des agents de liaison comprenant des groupes photo et des groupes vinyle et des revêtements et dispositifs qui incorporent de tels agents de liaison, conjointement avec des procédés sy rapportant. Des procédés à titre dexemples selon linvention comprennent des procédés dapprêtage de substrats et des procédés de revêtement de substrats à laide de composés ayant la formule R1 - X - R2, dans laquelle R1 est un radical comprenant un groupe vinyle, X est un radical comprenant denviron un à environ vingt atomes de carbone, et R² est un radical comprenant un groupe photoréactif. Des modes de réalisation selon linvention comprennent également des agents de liaison ayant la formule R1 - X - R2, dans laquelle R1 est un radical comprenant un groupe vinyle, X est un radical comprenant denviron un à environ vingt atomes de carbone, et R² est un radical comprenant un groupe photoréactif. Linvention concerne également dautres modes de réalisation.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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