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Ag合金膜とその製造方法、Ag合金スパッタリングターゲットおよび積層膜
- 专利权人:
- 三菱マテリアル株式会社
- 发明人:
- 歳森 悠人,塩野 一郎,張 守斌
- 申请号:
- JP20160131593
- 公开号:
- JP2017031503(A)
- 申请日:
- 2016.07.01
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 【課題】成膜直後は優れた光学特性と導電性とを有し、かつ、熱湿環境下においてもその光学特性と導電性とが大きく変化することがなく、塩素や硫黄による腐食がおこりにくく、さらに超薄膜にしても凝集が起こりにくいAg合金膜を提供する。【解決手段】Tiを0.1原子%以上5.0原子%以下、Cu、Sn、Mg、In、Sb、Al、Zn、Ge、Gaから選ばれる少なくとも1種の元素を合計で0.1原子%以上かつTiとの総計で10.0原子%以下となる範囲で含有し、残部がAgと不可避不純物からなり、Na、Si、V、Cr、Fe、Coの合計含有量が100質量ppm以下であることを特徴とするAg合金膜。【選択図】なし
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/