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Ａｇ合金膜とその製造方法、Ａｇ合金スパッタリングターゲットおよび積層膜
- 专利权人:
- 三菱マテリアル株式会社
- 发明人:
- 歳森 悠人,塩野 一郎,張 守斌
- 申请号：
- JP20160131593
- 公开号：
- JP2017031503(A)
- 申请日:
- 2016.07.01
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】成膜直後は優れた光学特性と導電性とを有し、かつ、熱湿環境下においてもその光学特性と導電性とが大きく変化することがなく、塩素や硫黄による腐食がおこりにくく、さらに超薄膜にしても凝集が起こりにくいＡｇ合金膜を提供する。【解決手段】Ｔｉを０．１原子％以上５．０原子％以下、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｇａから選ばれる少なくとも１種の元素を合計で０．１原子％以上かつＴｉとの総計で１０．０原子％以下となる範囲で含有し、残部がＡｇと不可避不純物からなり、Ｎａ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏの合計含有量が１００質量ｐｐｍ以下であることを特徴とするＡｇ合金膜。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
