Ａｌ−Ｔｅ−Ｃｕ−Ｚｒ系合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法
- 专利权人:
- ＪＸ金属株式会社
- 发明人:
- 小井土 由将
- 申请号：
- JP20160553148
- 公开号：
- JPWO2016056612(A1)
- 申请日:
- 2015.10.08
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- Ｔｅを２０ａｔ％〜４０ａｔ％含有し、Ｃｕを５ａｔ％〜２０ａｔ％含有し、Ｚｒを５ａｔ％〜１５ａｔ％含有し、残部がＡｌからなり、スパッタリングターゲット組織がＡｌ相、Ｃｕ相、ＣｕＴｅＺｒ相、ＣｕＴｅ相及びＺｒ相から構成されることを特徴とするスパッタリングターゲット。本発明は、組成ズレに起因する特性の劣化を効果的に抑制したＡｌ−Ｔｅ−Ｃｕ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。【選択図】図３
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