Ａｌ−Ｔｅ−Ｃｕ−Ｚｒ合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法
- 专利权人:
- ＪＸ金属株式会社
- 发明人:
- 小井土 由将
- 申请号：
- JP20160510100
- 公开号：
- JPWO2015146311(A1)
- 申请日:
- 2015.02.06
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- Ｔｅを２０ａｔ％〜４０ａｔ％含有し、Ｃｕを５ａｔ〜２０ａｔ％含有し、Ｚｒを５ａｔ〜１５ａｔ％含有し、残部がＡｌからなり、ターゲット組織中に、Ｔｅ相、Ｃｕ相及びＣｕＴｅ相が存在しないことを特徴とするＡｌ−Ｔｅ−Ｃｕ−Ｚｒ合金スパッタリングターゲット。本発明は、スパッタリングの際の、パーティクルの発生、ノジュールの発生等を効果的に抑制し、さらにターゲット中に含まれる酸素を減少させることのできるＡｌ−Ｔｅ−Ｃｕ−Ｚｒ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
