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Al−Te−Cu−Zr合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法
专利权人:
JX金属株式会社
发明人:
小井土 由将
申请号:
JP20160510100
公开号:
JP6262332(B2)
申请日:
2015.02.06
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
An Al-Te-Cu-Zr alloy sputtering target, comprising 20 at% to 40 at% of Te, 5 at% to 20 at% of Cu, 5 at% to 15 at% of Zr and the remainder of Al, wherein a Te phase, a Cu phase and a CuTe phase are not present in a structure of the target. An object of the present invention is to provide an Al-Te-Cu-Zr alloy sputtering target capable of effectively reducing particle generation, nodule formation and the like upon sputtering and further capable of reducing oxygen contained in the target.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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