PROBLEM TO BE SOLVED: To make roughness in a perpendicular direction to a circumferential direction absent, or to almost eliminate the existing roughness by polishing a gasket surface after molding a gasket shape that is laminated by a film.SOLUTION: A polishing is performed in a circumferential direction (a direction of a circles perimeter) of a gasket 13 to obtain an effect of eliminating roughness existing in a perpendicular direction to the circumferential direction of the gasket 13. In polishing in the circumferential direction, the entire peak part is polished to obtain a uniform effect in the circumferential direction. A base material of a polishing agent for polishing after molding the gasket 13 in a polishing method is not specifically limited, but a base material comprising a fine polishing particle is used. Preferably, alumina, silicon carbide, or diamond is used for the fine polishing particle.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】フィルムでラミネートされたガスケット形状を成型後に、ガスケット表面を研磨することにより、周方向に対して垂直方向の傷が存在しないか、存在する傷をほぼなくすこと。【解決手段】研磨を施す方向としては、ガスケット13の周方向(円周方向)である。ガスケット13の周方向に対して垂直方向に存在する傷を消す効果を得るためである。周方向に研磨する際、ピーク部全体にわたり研磨する。周方向にわたって均一な効果を得るためである。研磨方法としては、ガスケット13の成型後に研磨する研磨剤の基材は特に限定されないが、微細研磨粒子からなる基材を使用する。微細研磨粒子として、アルミナ、炭化ケイ素、ダイアモンドの使用が好ましい。【選択図】なし
