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荷電粒子線照射装置
专利权人:
住友重機械工業株式会社
发明人:
立川 敏樹,浅羽 徹,越智 俊昭
申请号:
JP2008087123
公开号:
JP5143606B2
申请日:
2008.03.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide charged-particle beam irradiation equipment which can easily suppress unevenness and deterioration in marginal sections in dose distributions of a charged-particle beam.SOLUTION: The charged-particle beam irradiation equipment 1 includes scanning electromagnets 5a and 5b for scanning the charged-particle beam R and a controller 6 for controlling the motion of the scanning electromagnets 5a and 5b. In the charged-particle beam irradiation equipment 1, the controller 6 modifies a scanning speed in the irradiation of an object with the charged-particle beam R along an irradiation line so as to compensate the marginal sections in the dose distributions of the charged-particle beam R. That is, the irradiation time of the charged-particle beam R is prolonged or shortened so as to compensate the marginal sections in the dose distribution. By this, the marginal sections in the dose distributions are controlled without controlling the intensity of the charged-particle beam R to easily suppress the unevenness and deterioration in the marginal sections in the dose distributions.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】荷電粒子線の線量分布における辺縁部のむらや低下を簡易に抑制することができる荷電粒子線照射装置を提供する。【解決手段】荷電粒子線照射装置1は、荷電粒子線Rを走査するための走査電磁石5a,5bと、走査電磁石5a,5bの動作を制御する制御装置6と、を備えている。荷電粒子線照射装置1では、制御装置6が、照射ラインに沿って荷電粒子線Rを照射するときの走査速度を、荷電粒子線Rの線量分布における辺縁部が補正されるように変更する。つまり、線量分布の辺縁部が補正されるように荷電粒子線Rの照射時間が長く又は短くされることになる。よって、荷電粒子線Rの強度を制御することなく線量分布の辺縁部が制御され、線量分布の辺縁部のむらや低下が簡易に抑制される。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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