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Skin cleanser composition
专利权人:
发明人:
SAWA, DAISUKE,泽大辅,澤大輔,YAMAMOTO, NAOKO,山本奈绪子,山本奈緒子,CHEN, MING CHU,陈明珠,陳明珠
申请号:
TW105133218
公开号:
TW201726903A
申请日:
2016.10.14
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
A skin cleanser composition comprising the following components (A), (B), (C) and (D): (A) 0.05 to 6% by mass of hydrophobic silica (B) 0.6 to 3.5% by mass of a water-soluble polymer (C) 1 to 15% by mass of an anion surfactant and (D) 50 to 90% by mass of a polyol or a polyol ether.本發明為一種皮膚洗淨劑組成物,其含有下述成分(A)、(B)、(C)及(D):(A)疏水性二氧化矽0.05~6質量%;(B)水溶性高分子0.6~3.5質量%;(C)陰離子界面活性劑1~15質量%;(D)多元醇或多元醇醚50~90質量%。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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