A skin cleanser composition comprising the following components (A), (B), (C) and (D): (A) 0.05 to 6% by mass of hydrophobic silica (B) 0.6 to 3.5% by mass of a water-soluble polymer (C) 1 to 15% by mass of an anion surfactant and (D) 50 to 90% by mass of a polyol or a polyol ether.Composition nettoyante pour la peau comprenant les constituants suivants (A), (B), (C) et (D) : (A) 0,05 à 6 % en masse de silice hydrophobe (B) 0,6 à 3,5 % en masse dun polymère soluble dans leau (C) 1 à 15 % en masse dun tensioactif anionique et (D) 50 à 90 % en masse dun polyol ou dun éther de polyol.次の成分(A)、(B)、(C)及び(D): (A)疎水性シリカ 0.05~6質量%、 (B)水溶性高分子 0.6~3.5質量%、 (C)アニオン界面活性剤 1~15質量%、 (D)ポリオール又はポリオールエーテル 50~90質量% を含有する皮膚洗浄剤組成物。
